비교과·행사

제12기 MEMS 공정교육 참가학생 모집(서울테크노파크)

2019년 5월 31일
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제12기 서울테크노파크 MEMS 공정 교육 참가학생 모집

서울테크노파크의 FAB(Clean Room(청정실))은 서울에서 학생들에게 오픈되어 있는 곳이 유일하며, 실제로 장비를 다뤄볼 수 있는 곳은 이곳 밖에 없습니다. MEMS에 관심이 있는 학생들에게 좋은 기회인 본 교육에 많은 참여 바랍니다.

■ 교육목표

ㅇ IoT 융합 신기술 인재 양성을 위하여 IoT 핵심요소 중 하나인 MEMS 공정 기술인력 양성 필요

ㅇ 이론(2일) + 실습(2일) 과정으로 교육 과정을 수립하고, 실습 위주의 교육을 실행함으로써 FAB 환경에서의 업무 경험 증대

ㅇ MEMS 공정(반도체)및 재료의 이해와 장비 교육을 통하여 실무 지식 및 활용능력 향상

ㅇ 산학 공용 장비에 대한 홍보 및 교육을 통한 장비 활용도 제고

■ 교육내용

과 정 명

MEMS 공정 실습 (Inductor 제작 및 평가)

교육정원

18명 (숭실대학생 3명 선발)

교육장소

이론강의 : (재)서울테크노파크 602호

공정실습 : (재)서울테크노파크 FAB, 309호, 310호

수강대상

서울과학기술대학교 거점센터 참여대학 공학계열 재학생

교육기간

2019. 6. 25 ~ 2019. 6. 28. (4일간)

교육내용

○ 반도체 FAB 출입 및 환경 안전교육

○ MEMS 공정 개론

○ MEMS 공정 단계별 이론교육

○ 공정실습 사전 장비교육

○ Inductor 제작공정 실습

○ Inductor 측정 실습

■ 신청방법 및 모집기한

ㅇ 신청대상 : 본교 공과/IT대학 재학생

ㅇ 신청기간 : 6월 7일(금) 오후 5시까지 접수자에 한함

ㅇ 신청방법 : 참가신청서(첨부1), 개인정보동의서(첨부2)를 작성하여 이메일 제출(ascee@ssu.ac.kr)

■ 교육일정

                         일 자

시 간

25일(이론)

26일(이론)

27일(실습)

28일(실습)

09:00~10:00

서울테크노파크 집결

서울테크노파크 집결

Photo Lithography

(via hole)

Electroplating

(Inductor)

교육 소개

이론 4

10:00~11:00

이론 1

ICP-Echting

PR strip

Seed Etching

11:00~12:00

점심

12:00~13:00

점심

점심

공정실습

이론교육

점심

13:00~14:00

AFM 실습

이론 2

Sputter

(Seed 증착)

14:00~15:00

휴식

Nano 3d 실습

15:00~16:00

청정실

안전교육

Photo

Lithography

(Inductor)

휴식

16:00~17:00

이론 3

동영상 시청 및 질의 응답

3층 측정실습

17:00~18:00

안전교육 시험

수료증 수여 및 설문조사

*실습의 경우 그룹편성에 따라 교육 프로그램 스케쥴이 변경 

■ 이론교육 강의

일시

강의명

강사

2019. 6. 25. (10:30~12:30)

MEMS 공정개론 및 시장동향

조영학 교수(서울과기대)

2019. 6. 25. (13:30~15:30)

Photo Lithography

옥종걸 교수(서울과기대)

2019. 6. 25. (16:00~18:00)

Deposition

안지환 교수(서울과기대)

2019. 6. 26. (09:30~11:30)

Etching Process

이상훈 교수(서울과기대)

■ 문의사항 : 공학교육혁신센터(02-828-7138, 형남 311)

공학교육혁신센터장