제18기 서울테크노파크 MEMS 공정 교육 참가학생 모집
서울테크노파크의 FAB(Clean Room(청정실))은 서울에서 학생들에게 오픈되어 있는 곳이
거의 없어, MEMS에 관심이 있는 학생들에게 좋은 기회입니다.
관심 있는 학생들의 많은 참여 바랍니다.
■ 교육목표
ㅇ IoT 융합 신기술 인재 양성을 위하여 IoT 핵심요소 중 하나인 MEMS 공정 기술인력 양성 필요
ㅇ 이론(2일/온라인) + 실습(3일/오프라인) 과정으로 교육 과정을 수립하고, 실습 위주의 교육을 실행함으로써 FAB 환경에서의 업무 경험 증대
ㅇ MEMS 공정(반도체)및 재료의 이해와 장비 교육을 통하여 실무 지식 및 활용능력 향상
ㅇ 산학 공용 장비에 대한 홍보 및 교육을 통한 장비 활용도 제고
■ 교육내용
| 과 정 명 | MEMS 공정 실습 (Inductor 제작 및 평가) |
| 교육정원 | 18명 (숭실대학생 2명 선발) |
| 교육장소 | 공정실습 이론 : (재)서울테크노파크 스마트홀 C
공정실습 : (재)서울테크노파크 FAB, 309호, 310호 |
| 수강대상 | 서울과학기술대학교 거점센터 참여대학 공학계열 재학생 |
| 교육기간 | 2021. 7. 26. ~ 2021. 7. 27. (2일) – 온라인 이론교육
2021. 7. 28. ~ 2021. 7. 30. (3일) – 실습 교육 |
| 교육내용 | ○ 반도체 FAB 출입 및 환경 안전교육
○ MEMS 공정 개론 ○ MEMS 공정 단계별 이론교육 ○ 공정실습 사전 장비교육 ○ Inductor 제작공정 실습 ○ Inductor 측정 실습 |
■ 신청방법 및 모집기한
ㅇ 신청대상 : 본교 공과/IT대학 3, 4학년 재학생 (통학 가능한 학생)
ㅇ 신청기간 : 7월 7일(수) 오후 5시 까지 접수자에 한함
ㅇ 신청방법 : 참가신청서(첨부1), 개인정보동의서(첨부2)를 작성하여 이메일 제출(ascee@ssu.ac.kr)
■ 교육일정
| 일 자
시 간 |
1일차(이론) | 2일차(이론) | 3일차(실습) | 4일차(실습) | 5일차(실습) |
| 09:00~10:00 | 서울테크노파크 집결 | Photo Lithography
(via hole) |
Electroplating
(Inductor) |
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| 10:00~11:00 | |||||
| 공정실습
교육 |
ICP-Echting | PR strip
Seed Etching |
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| 11:00~12:00 | |||||
| 12:00~13:00 | 점심 | ||||
| 점심 | 점심 | ||||
| 13:00~14:00 | SEM 실습 | ||||
| 청정실
안전교육 |
Sputter
(Seed 증착) |
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| 14:00~15:00 | 이론 1
(온라인) |
이론 3
(온라인) |
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| Nano 3d 실습 | |||||
| 15:00~16:00 | 안전교육 시험 | Photo
Lithography (Inductor) |
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| 휴식 | 휴식 | ||||
| 이론 2
(온라인) |
이론 4
(온라인) |
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| 16:00~17:00 | |||||
| 동영상 시청 및 질의 응답 | |||||
| 3층 측정실습 | |||||
| 17:00~18:00 | 수료증 수여 및 설문조사 |
* 실습의 경우 그룹편성에 따라 교육 프로그램 스케쥴이 변경
■ 이론교육 강의
| 시간 | 강의명 |
| 이론강의 1 | MEMS 공정개론 및 시장동향 |
| 이론강의 2 | Photo Lithography |
| 이론강의 3 | Deposition |
| 이론강의 4 | Etching Process |
■ 문의사항 : 공학교육혁신센터(02-828-7138, 형남 311)
공학교육혁신센터장