제6기 서울테크노파크 MEMS 공정 교육 참가학생 모집
서울테크노파크의 FAB(Clean Room(청정실))은 서울에서 학생들에게 오픈되어 있는 곳이 유일하며, 실제로 장비를 다뤄볼 수 있는 곳은 이곳 밖에 없습니다. MEMS에 관심이 있는 학생들에게 좋은 기회인 본 교육에 많은 참여 바랍니다.
■ 교육목표
ㅇ IoT 융합 신기술 인재 양성을 위하여 IoT 핵심요소 중 하나인 MEMS 공정 기술인력 양성 필요
ㅇ 이론(2일) + 실습(3일) 과정으로 교육 과정을 수립하고, 실습 위주의 교육을 실행함으로써 FAB 환경에서의 업무 경험 증대
ㅇ MEMS 공정(반도체)및 재료의 이해와 장비 교육을 통하여 실무 지식 및 활용능력 향상
ㅇ 산학 공용 장비에 대한 홍보 및 교육을 통한 장비 활용도 제고
■ 교육내용
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과 정 명 |
MEMS 공정 실습 (Inductor 제작 및 평가) |
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교육정원 |
18명 (숭실대학생 3명 선발) |
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교육장소 |
이론강의 : (재)서울테크노파크 304호 공정실습 : (재)서울테크노파크 FAB, 309호, 310호 |
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<숙박 안내> 1. 기본적으로 등교를 원칙으로 하나, 부득이하게 기숙사를 사용해야 하는 학생은 기숙사 비용을 개별 부담하여 신청 가능 2. 기숙사 신청 학생은, 선발 후 흉부 X-ray(폐결핵 유무 확인용) 검진 결과서를 제출해야 함(미제출 시 생활관 입주 불가) 3. 생활관 이용 안내문(첨부3) |
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수강대상 |
서울과학기술대학교 거점센터 참여대학 공학계열 재학생 |
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교육기간 |
2017. 7. 3 ~ 2017. 7. 7. (5일간) |
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교육내용 |
○ 반도체 FAB 출입 및 환경 안전교육 ○ MEMS 공정 개론 ○ MEMS 공정 단계별 이론교육 ○ 공정실습 사전 장비교육 ○ Inductor 제작공정 실습 ○ Inductor 측정 실습 |
■ 신청방법 및 모집기한
ㅇ 신청기간 : 6월 20일(화) 오후 5시까지 접수자에 한함
ㅇ 신청방법 : 참가신청서(첨부1), 개인정보동의서(첨부2)를 작성하여 이메일 제출(ascee@ssu.ac.kr)
■ 교육일정
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구분 |
3일(이론) |
4일(이론) |
5일(실습) |
6일(실습) |
7일(실습) |
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09:00~10:00 |
서울TP 이동 |
서울TP 이동 |
공정실습 (이론교육) |
측정실습 |
서울TP 이동 |
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10:00~11:00 |
이론3 |
AFM 측정실습 |
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Bottom Electrode Litho. |
Inductor Litho. |
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11:00~12:00 |
교육소개 |
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점심 |
점심 |
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12:00~13:00 |
점심 |
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이론1 |
SEM 측정 |
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13:00~14:00 |
이론4 |
점심 |
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점심 |
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14:00~15:00 |
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휴식 |
Hole Etch |
Inductor Electro plating |
Nano-3D 실습 |
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15:00~16:00 |
이론2 |
휴식 |
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수료증 수여 |
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청정실 안전교육 |
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16:00~17:00 |
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교육 시험 |
*실습의 경우 그룹편성에 따라 교육 프로그램 스케쥴이 변경
■ 이론교육 강의
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시간 |
강의명 |
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3일 (12:30 ~ 14:30) |
MEMS 공정개론 및 시장동향 |
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3일 (15:00 ~ 17:00) |
Photo Lithography |
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4일 (10:00 ~ 12:00) |
Deposition |
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4일 (13:00 ~ 15:00) |
Etching Process |
■ 문의사항 : 공학교육혁신센터(02-828-7138, 형남 311)
공학교육혁신센터장